专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]聚焦设备-CN201110272408.0有效
  • 浜田正隆;石桥贤司 - 三星电子株式会社
  • 2011-09-08 - 2012-04-04 - G03B13/36
  • 公开了一种聚焦设备。所述聚焦设备包括:聚焦区域设置单元,设置第一捕捉的图像中的第一聚焦区域;自动聚焦控制单元,根据从第一聚焦区域计算的第一聚焦估计值,通过自动地调整聚焦透镜来执行聚焦;信息获得单元,通过手动调整聚焦透镜获得与从第二捕捉的图像中的第二聚焦区域计算的第二聚焦估计值相应的聚焦辅助信息;存储单元,存储关于第一聚焦区域的第一聚焦区域信息和关于第二聚焦区域的第二聚焦区域信息中的至少一个,其中,聚焦区域设置单元在另一聚焦期间从第一聚焦区域信息和第二聚焦区域信息中设置第三捕捉的图像中的第三聚焦区域
  • 聚焦设备
  • [发明专利]基于误差约束的动态聚焦最优分段方法及装置-CN201310381192.0有效
  • 王平;王思奇;王林泓;邹强鑫;程娜;潘震;龚志辉 - 重庆大学
  • 2013-08-28 - 2013-12-04 - G06F19/00
  • 本发明公开了一种基于误差约束的动态聚焦最优分段方法及装置;该方法首先根据给定聚焦通道数和采样率生成聚焦延时表,然后结合聚焦误差δ,对聚焦延时表进行依次分段计算,在每个分段区间选取一个特定聚焦点,使得该分段聚焦区域内聚焦延时数据相对于该聚焦点延时参数误差控制在±δ/2范围内,依此方法对整个聚焦延时表进行动态分段;根据分段聚焦延时和聚焦误差δ,生成分段聚焦延时数据修正信息,聚焦延时参数发生装置在动态分段聚焦过程中,根据聚焦延时修正信息实时修正聚焦延时参数;本发明对全程探测范围内动态聚焦进行最优分段,并保证在全程动态聚焦时候,将聚焦延时参数误差限定在约束范围内,实现动态聚焦最优动态分段,最大限度降低了存储量。
  • 基于误差约束动态聚焦最优分段方法装置
  • [发明专利]一种自动聚焦的方法、装置和电子设备-CN202010449914.1有效
  • 谢伟 - 浙江大华技术股份有限公司
  • 2020-05-25 - 2021-12-14 - H04N5/232
  • 本申请涉及一种自动聚焦的方法、装置和电子设备,其中,该自动聚焦的方法包括:相比于相关技术,本申请实施例提供的自动聚焦的方法,通过获取视频图像的主聚焦区域和辅助聚焦区域,计算主聚焦区域的第一清晰度评价值和辅助聚焦区域的第二清晰度评价值;搜索第一主聚焦峰值和辅助聚焦峰值,计算辅助聚焦峰值相较于第一主聚焦峰值的偏差值,增加辅助聚焦区域的权重系数,计算第三清晰度评价值并搜索第二主聚焦峰值,将第二主聚焦峰值所对应的聚焦点为视频图像的聚焦点,解决了以关注度较高区域的清晰度评价值最大的位置作为图像最清晰点位置,辅助聚焦区域清晰度不达标的问题,实现了主聚焦区域聚焦清晰的同时兼顾辅助聚焦区域聚焦清晰。
  • 一种自动聚焦方法装置电子设备
  • [发明专利]光刻设备基准聚焦变动后产品的风险评估方法-CN202211552623.0有效
  • 杨晓彤 - 广州粤芯半导体技术有限公司
  • 2022-12-06 - 2023-03-24 - G03F7/20
  • 本发明提供了一种光刻设备基准聚焦变动后产品的风险评估方法,包括:基准聚焦变动前,在不同聚焦条件下对晶圆进行曝光;得到基准聚焦变动前线宽与聚焦的关系式并计算最佳聚焦;基准聚焦变动后,在不同聚焦条件下对晶圆进行曝光;得到基准聚焦变动后线宽与聚焦的关系式并计算最佳聚焦;计算两个最佳聚焦的差值;如果差值超过第一阈值,则计算基准聚焦变动后的晶圆上多个点对应的聚焦的均匀度和最大聚焦和最小聚焦的差值是否均达标,如果聚焦的均匀度和/或最大聚焦和最小聚焦的差值没有达标,则认为基准聚焦变动后的工艺生产的产品有风险。本发明可以确认基准聚焦的变动是否对工艺带来影响。
  • 光刻设备基准聚焦变动产品风险评估方法
  • [实用新型]一种便于维修的激光清洗装置-CN202320234701.6有效
  • 何天助;叶华思 - 深圳市睿法智能科技有限公司
  • 2023-02-04 - 2023-06-13 - B08B7/00
  • 本实用新型公开一种便于维修的激光清洗装置,涉及激光清洗技术领域,包括光纤接入组件、准直透镜组件、聚焦透镜组件和出光口,光纤接入组件、准直透镜组件、聚焦透镜组件和出光口依次连接,聚焦透镜组件包括聚焦壳体、聚焦镜片和聚焦镜片安装盒,聚焦壳体上设置有聚焦安装口,且聚焦壳体内设置有聚焦内腔,聚焦镜片安装盒上设置有聚焦镜片安装位,聚焦镜片可拆卸式安装在聚焦镜片安装位上,聚焦镜片安装盒可拆卸式安装在聚焦安装口上。在本实用新型当中,当聚焦镜片出现损坏的时候,可以十分方便地实现聚焦镜片及相关组件的维修和替换。
  • 一种便于维修激光清洗装置
  • [发明专利]一种2.5mm焦点的螺旋阴极聚焦方法-CN201610774107.0有效
  • 刘斌;张晓梅;曾春辉;陈帅;冯家豪 - 成都凯赛尔电子有限公司
  • 2016-08-31 - 2018-05-22 - H01J35/14
  • 一种2.5mm焦点的螺旋阴极聚焦方法,利用聚焦系统实现,具体包括以下步骤:a.制造聚焦罩:聚焦罩底部开设卡合台,卡合台外径小于聚焦罩主体的外径,聚焦罩中间凹陷形成方形的强聚焦槽,强聚焦的底面中间开设腰圆形弱聚焦槽,强聚焦槽与弱聚焦槽连通,共同贯穿聚焦罩上下面,弱聚焦槽两侧对称开设两个螺钉孔,将强聚焦槽的高度H设置为13mm,将弱聚焦槽的长度F设置为10mm、宽度D设置为3mm;制造聚焦极;安装瓷柱;安装灯丝:阴极灯丝的最高点相对于强聚焦槽底面的高度N为0.1mm;装配聚焦罩与聚焦极,完成。利用该聚焦系统,可达到2.5mm的焦点尺寸。
  • 一种2.5mm焦点螺旋阴极聚焦方法
  • [实用新型]一种2.5mm焦点的螺旋阴极聚焦系统-CN201621001157.7有效
  • 刘斌;张晓梅;曾春辉;陈帅;冯家豪 - 成都凯赛尔电子有限公司
  • 2016-08-31 - 2017-02-15 - H01J35/14
  • 一种2.5mm焦点的螺旋阴极聚焦系统,包括聚焦罩和聚焦极,聚焦罩底部有卡合台,聚焦罩中间凹陷为方形的强聚焦槽,强聚焦槽的底面有腰圆形的弱聚焦槽,强聚焦槽的高度H为13mm,弱聚焦槽的长度F为10mm、宽度D为3mm,强聚焦槽的底面还设有两个螺钉孔,聚焦极顶部设有卡合槽,聚焦极中间设有两个与螺钉孔匹配的紧固孔,聚焦极中间还设有两个贯穿的阴极安装孔,聚焦罩装配在聚焦极上,阴极灯丝安装后,其最高点相对于强聚焦槽底面的高度通过聚焦罩结构设计,优化强聚焦和弱聚焦的尺寸,并改善与聚焦极的装配结构,实现焦点大小为2.5mm,且装配方便稳定性强,非常适合应用于工业探伤领域。
  • 一种2.5mm焦点螺旋阴极聚焦系统
  • [实用新型]一种长工作距贝塞尔激光束切割装置-CN202022601726.4有效
  • 曾帅;李琼霞;张洁 - 武汉茂捷光电科技有限公司
  • 2020-11-11 - 2021-07-23 - B23K26/38
  • 本实用新型提供一种长工作距贝塞尔激光束切割装置,包括从物方到像方依次设置的锥形棱镜、第一聚焦镜和长工作距聚焦镜组,所述长工作距聚焦镜组包括从物方到像方依次设置的第二聚焦镜、第三聚焦镜、第四聚焦镜、第五聚焦镜、第六聚焦镜和保护镜,其中第二聚焦镜为双凹负聚焦镜,第三聚焦镜为平凸正聚焦镜,第四聚焦镜为弯月负聚焦镜,第五聚焦镜为双凸正聚焦镜,第六聚焦镜为弯月负聚焦镜;所述锥形棱镜用以将高斯激光束整形为贝塞尔激光束,所述贝塞尔激光束经过第一聚焦镜后,形成4F激光束,所述4F激光束经过长工作距聚焦镜组后,在待加工玻璃的表面形成聚焦光斑。
  • 一种工作距贝塞尔激光束切割装置
  • [实用新型]一种长工作距贝塞尔激光束切割头-CN202022601737.2有效
  • 曾帅;李琼霞;张洁 - 武汉茂捷光电科技有限公司
  • 2020-11-11 - 2021-07-23 - B23K26/38
  • 本实用新型提供一种长工作距贝塞尔激光束切割头,包括从物方到像方依次设置的锥形棱镜、第一聚焦镜和长工作距聚焦镜组,所述长工作距聚焦镜组包括从物方到像方依次设置的第二聚焦镜、第三聚焦镜、第四聚焦镜、第五聚焦镜、第六聚焦镜和保护镜,其中第二聚焦镜为平凹负聚焦镜,第三聚焦镜为平凸正聚焦镜,第四聚焦镜为弯月负聚焦镜,第五聚焦镜为平凸正聚焦镜,第六聚焦镜为弯月负聚焦镜;所述锥形棱镜用以将高斯激光束整形为贝塞尔激光束,所述贝塞尔激光束经过第一聚焦镜后,形成4F激光束,所述4F激光束经过长工作距聚焦镜组后,在待加工玻璃的表面形成聚焦光斑。
  • 一种工作距贝塞尔激光束切割
  • [发明专利]自动聚焦方法、记录该方法的记录介质以及自动聚焦设备-CN201010583589.4有效
  • 高成植 - 三星电子株式会社
  • 2010-12-02 - 2011-06-08 - G02B7/36
  • 提供一种自动聚焦方法、记录该方法的记录介质以及自动聚焦设备。公开了一种通过确定位于聚焦透镜的当前位置的聚焦透镜的移动方向来实现自动聚焦以提高自动聚焦速度的方法,一种用于记录所述自动聚焦方法的记录介质以及一种自动聚焦设备。所述自动聚焦方法通过以下步骤实现:确定聚焦透镜的当前位置;确定在聚焦透镜的当前位置输入的第一图像是否具有图像模糊;如果聚焦透镜的当前位置是用于近范围聚焦的位置并且所述第一图像具有图像模糊,则确定聚焦透镜的移动方向是朝向更远范围聚焦;如果聚焦透镜的当前位置是用于远范围聚焦的位置并且所述第一图像具有图像模糊,则确定聚焦透镜的移动方向是朝向更近范围聚焦
  • 自动聚焦方法记录介质以及设备
  • [发明专利]聚焦超声装置及聚焦超声换能器聚焦方法-CN201911395429.4有效
  • 谭坚文;李雁浩;曾德平;王智彪 - 重庆融海超声医学工程研究中心有限公司
  • 2019-12-30 - 2023-03-10 - A61N7/02
  • 本发明提供一种聚焦超声装置及聚焦超声换能器聚焦方法,属于高强度聚焦超声治疗技术领域,其能够对聚焦超声换能器在人体组织内部的实际焦域位置进行校准,实现焦域的精准定位。本发明的聚焦超声装置包括聚焦超声换能器、连续波驱动源、脉冲信号仪及控制器,其中:聚焦超声换能器用于在首次发射连续超声波对焦域内的组织进行消融之前,在脉冲信号仪的驱动下向任意正常组织的界面发射脉冲超声波,并将接收到的回波信号发送至脉冲信号仪;以及在连续波驱动源的驱动下多次发射连续超声波,以对焦域内的组织进行消融;控制器用于控制聚焦超声换能器发射脉冲超声波,并通过脉冲信号仪获取回波信号,根据回波信号确定聚焦超声换能器的实际焦距
  • 聚焦超声装置换能器方法

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